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| 1968 |
Gründung der MICRO-EPSILON in Hannover als Handelshaus für Hochtemperatur-Dehnungsmessstreifen und von Sensoren für mechanische Größen |
| 1975 |
Umzug des Unternehmens nach Ortenburg |
| 1979 |
Neubau und Bezug des neuen Betriebsgebäudes in Dorfbach |
| 1980 |
Markteinführung der multiNCDT-Systeme (Wirbelstrom-Wegsensoren) |
| 1985 |
Einstieg in die industrielle Wegsensorik |
| 1986 |
Hallen-Neubau für Sensor- und Elektronikfertigung |
| 1987 |
Produktstart der capaNCDT-Systeme (kapazitive Wegsensoren). Einführung der linearen, induktiven Wegaufnehmer und Messtaster (LVDT) |
| 1990 |
Gründung des Micro-Epsilon UK sales office |
| 1991 |
Gründung der Micro-Sensor spol. s.r.o. |
| 1992 |
Markteinführung der optoNCDT-Systeme (Laser-Wegsensoren). Gründung der Micro-Hybrid Electronic GmbH in Hermsdorf |
| 1993 |
Markteinführung der Seilzug-Wegsensoren. Gründung der Micro-Optronic Messtechnik GmbH in Dresden-Langebrück |
| 1994 |
Produkteinführung vipSENSOR |
| 1995 |
Gründung der Micro-Epsilon France S.a.r.l. Gründung der System-Gruppe |
| 1996 |
Hallen-Neubau für Sensor- und Systementwicklung |
| 1998 |
Start des Verkaufs der Software-Toolbox ICONNECT. Gründung der Micro-Epsilon America |
| 1999 |
Übernahme der Rikenta AG Schweiz (Micro-Epsilon Swiss) |
| 2000 |
Hallen-Neubau für Sensor- und Elektronikfertigung |
| 2001 |
Vervollständigung des Produktprogramms um Bildverarbeitungs-Sensorsystemen |
| 2002 |
Markteinführung von Laser-Mikrometersystemen |
| 2003 |
Erweiterung Produktportfolio um konfokale Sensoren, sowie scanCONTROL Laser-Profilsensoren; Übernahme der Optris GmbH (Micro-Epsilon Optris), Berlin |
| 2004 |
Gründung der Micro-Epsilon China |
| 2005 |
Neues Gebäude für Verwaltung; Launch der Laserlaufzeitsensoren optoNCDT ILR |
| 2006 |
Verkaufsstart der konfokalen Miniatursensoren optoNCDT 2402 und des Low-Cost Lasertriangulators optoNCDT1300 |
| 2010 |
Umzug der Systemtechnik in größeres Gebäude (Werk Ortenburg II) |